等離子電漿拋光設備在拋光時的速度和移轉是不是調和恰當！平麵拋光後的拋光運動軌跡通常都是比較簡單，它是由翻滾與直線或者是曲線運動構成的一種複合運動。等離子拋光設備中在被拋光工件的曲麵上所留下的軌跡通常都是為相互交織的四環螺旋線。 等離子拋光設備在曲麵拋光工作的時分種類比較多，多見的有外圓表麵、內孔表麵、內螺紋表麵、表裏被麵、球麵及曲線表麵等，曲麵拋光運動通常都是選用敷砂拋光法，當拋光速度和移轉調和恰當的時分，所拋光出的條紋與回轉軸線成45度交叉，而當拋光速度太快而支配出現移動太慢或者是相反的時分，所拋光出來條紋的交叉角度則就會出現大於或小於的狀況。等離子拋光設備
     等離子電漿拋光設備在曲麵拋光加工的過程中，拋光盤與工件之間的運動有點、線、麵接觸三種狀況。例如，用平板研具研拋球麵時即為點的接觸；而用平板研具研拋外因及外圓錐表麵即為線接觸；用膿開式研具拋光盤拋光拋光外圓及內孔等表麵則為麵接觸。當拋光表麵麵時，通常最為常用的是選用工件翻滾，拋光盤施力支配移動並稍向前後圓弧搖晃；而在拋光內曲麵時，正雄拋光通常選用的是拋光盤研具翻滾，工件施力支配移動並稍向前後圓弧搖晃。上述的這兩種拋光運動都是歸於手工與機械拋光機協作的拋光運動方法。